日本USHIO電機(jī)開發(fā)出了可發(fā)出波長為193nm單色光的準(zhǔn)分子紫外燈（Excimer Lamp）。該成果為全球首創(chuàng)。無需使用昂貴的激光器即可用于ArF液浸光刻（Lithography）所需要的保護(hù)膜、材料。2008年9月開始面向研發(fā)用途銷售。

  配備了此次開發(fā)的燈管的照射裝置，由于采用了ArF準(zhǔn)分子紫外燈，不需要激光器那樣的繁瑣的氣體更換工作。同時(shí)，也省去了氣體配管以及有毒氣體排出裝置。維修方面，只需定期更換燈管，不需要調(diào)整光軸。初期成本僅為半導(dǎo)體光刻專用ArF激光器的數(shù)分之一。使用時(shí)，通過選擇燈管與燈具，可滿足多種照射范圍的要求。照射裝置的尺寸為430mm×200mm×150mm，重量為7kg，能夠攜帶使用。

  該公司計(jì)劃在2007年12月5～7日千葉縣幕張Messe會(huì)展中心舉辦的“SEMICON JAPAN 2007”展會(huì)上展出該產(chǎn)品。